電子顯微鏡樣品導電薄膜制造裝置-鋨等離子體鍍膜機

用鋨離子鍍膜 機電鏡觀察 　解決您的難題！ 　它對于防止充電、減少顆粒感和熱損傷非常有效。

 概述

鋨等離子鍍膜機是一種主要用于SEM樣品的導電薄膜生產(chǎn)裝置，采用“使用直流輝光放電的負輝光相區(qū)域的等離子成膜方法"。導電鋨薄膜可以使用獲得的直流等離子體CVD方法形成（在負輝光相區(qū)域內(nèi)成膜）。自動操作允許任何人安全地沉積鋨薄膜并具有良好的再現(xiàn)性。 該產(chǎn)品陣容包括鋨薄膜專用型號和配備使用萘的等離子聚合膜機構(gòu)的兩用型號。可選配超薄膜形成機構(gòu)、親水處理機構(gòu)、深樣品機構(gòu)，支持各種應(yīng)用。 此外，除了傳統(tǒng)的開關(guān)型外，鋨薄膜型號的產(chǎn)品陣容中還新增了觸摸屏型。

 原則

 與其他方法的比較

◆關(guān)于鋨薄膜 ?無粒度 - 人類淋巴細胞 鋨涂層 放大倍數(shù)：50,000x 濺射鍍膜 (Pt-Pd) 放大倍數(shù)：50,000x 　由于鋨薄膜是非晶態(tài)的，沒有顆粒感，可以清晰地拍攝樣品表面。 　濺射涂層樣品顯示出顆粒狀。 ? 良好的環(huán)繞性 - 抗破洞 鋨涂層 放大倍數(shù)：50,000x 非拍攝 放大倍率：50,000x 　通過將氧化鋨氣化后成膜，即使是凹凸區(qū)域，也能夠以良好的覆蓋率進行涂敷。 　無需充電即可拍攝清晰的照片。 ?無熱損傷-硝酸安 鋨涂層 ↓ 放大倍數(shù)：1,000x 金沉積法 ↓ 放大倍數(shù)：2,000x 　沒有加熱的過程，可以在室溫下成膜，因此對樣品沒有熱損傷。 　經(jīng)過金蒸發(fā)預(yù)處理的樣品因熱損傷而出現(xiàn)裂紋。 ?金屬鋨的熔點 　高達2,700℃， 不會被電子束損壞，是一種極其堅固的薄膜。 ?無污染（在鋨離子氣氛中形成的膜） ◆關(guān)于等離子聚合膜（萘制碳氫化合物膜） ?韌性（應(yīng)用于FIB） 　這是一種堅韌的膜，可以承受FIB中使用的鎵離子。 ?耐熱性? 絕緣性 ?無顆粒感（碳氫化合物等離子聚合膜是無定形的） ?良好的包裹性（萘氣化后形成膜） ?無熱損傷（無加熱過程，（在室溫下形成膜） ?無電子束損傷

 應(yīng)用